Súbor:EVG 120 resist coater-developer at LAAS 0434.jpg
Veľkosť tohto náhľadu: 800 × 536 pixelov. Iné rozlíšenia: 320 × 214 pixelov | 640 × 428 pixelov | 1 024 × 685 pixelov | 1 280 × 857 pixelov | 2 560 × 1 714 pixelov | 3 872 × 2 592 pixelov .
Pôvodný súbor (3 872 × 2 592 pixelov, veľkosť súboru: 4,24 MB, MIME typ: image/jpeg)
Zhrnutie
| Popis |
English: EVG 120 fully automated photoresist coater-developer under inactinic light at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Machine EVG 120 d'enduction et révélation automatisée de résine photosensible sous lumière inactinique à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France. |
| Dátum | |
| Zdroj | Vlastné dielo |
| Autor | Guillaume Paumier (user:guillom) |
| Povolenie (Využívanie tohto súboru) |
Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0 |
| Pozícia kamery |  | Tento a ďalšie obrázky na: OpenStreetMap |  |
|---|
Credit information:
- This work was created by me (Guillaume Paumier). You are free to use it for any purpose as long as you credit me properly.
- Credit line on the web (with hyperlink): Guillaume Paumier, CC-BY.
- Printed publications: guillaumepaumier.com, CC-BY.
- If you use this image outside of Wikimedia projects, I would be happy to hear from you.
- If you use this image in a printed publication, I would love to get a copy for my archives.
Licencovanie
Ja, držiteľ autorských práv k tomuto dielu ho týmto zverejňujem za podmienok nasledovných licencií:
Tento súbor podlieha licencii Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported
- Môžete slobodne:
- zdieľať – kopírovať, šíriť a prenášať dielo
- meniť ho – upravovať dielo
- Za nasledovných podmienok:
- uvedenie autorov – Musíte spomenúť autorov (jednotlivo alebo kolektívne), poskytnúť odkaz na licenciu a uviesť, či ste niečo zmenili. Môžete to urobiť ľubovoľným primeraným spôsobom, ale nie spôsobom naznačujúcim, že poskytovateľ licencie podporuje vás alebo vaše použitie diela.
- meniť za rovnakých podmienok – Ak toto dielo zmeníte, prevediete do inej formy alebo použijete ako základ iného diela, musíte výsledok šíriť pod rovnakou alebo kompatibilnou licenciou ako originál.
|
Bolo udelené povolenie kopírovať, širiť a/alebo meniť tento dokument za podmienok GNU Free Documentation License, verzie 1.2 alebo ktorejkoľvek neskoršej verzie publikovanej Free Software Foundation; bez Nemenných častí, bez Textov na prednej obálke a bez Textov na zadnej obálke. Kópia tejto licencie je zahrnutá v časti nazvanej GNU Free Documentation License. |
Môžete si zvoliť ľubovolnú z týchto licencií.
História súboru
Po kliknutí na dátum/čas uvidíte ako súbor vyzeral vtedy.
| Dátum/Čas | Náhľad | Rozmery | Používateľ | Komentár | |
|---|---|---|---|---|---|
| aktuálna | 09:23, 12. november 2007 | | 3 872 × 2 592 (4,24 MB) | Guillom | ==Description== {{Information |Description={{en|EVG 120 fully automated en:photoresist coater-developer under en:inactinic light at fr:LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.}} {{fr|Machine EVG 120 d'e |
Použitie súboru
Na tento súbor odkazuje nasledujúca stránka:
Globálne využitie súborov
Nasledovné ďalšie wiki používajú tento súbor:
