Súbor:Anisotropic wet etching.svg
Veľkosť tohoto PNG náhľadu tohoto SVG súboru: 300 × 175 pixelov. Iné rozlíšenia: 320 × 187 pixelov | 640 × 373 pixelov | 1 024 × 597 pixelov | 1 280 × 747 pixelov | 2 560 × 1 493 pixelov .
Pôvodný súbor (SVG súbor, 300 × 175 pixelov, veľkosť súboru: 18 KB)
| Popis |
English: A diagram showing anisotropic wet etching in silicon, showing the undercut under the resist. The etch rate in the <111> direction is much slower (about 100× slower) than in the <100> direction. |
||
| Dátum | |||
| Zdroj | Vlastné dielo | ||
| Autor | Inductiveload | ||
| Povolenie (Využívanie tohto súboru) |
|
História súboru
Po kliknutí na dátum/čas uvidíte ako súbor vyzeral vtedy.
| Dátum/Čas | Náhľad | Rozmery | Používateľ | Komentár | |
|---|---|---|---|---|---|
| aktuálna | 21:27, 14. máj 2010 | | 300 × 175 (18 KB) | Inductiveload | {{Information |Description={{en|A diagram showing anisotropic wet etching in silicon, showing the undercut under the resist. The etch rate in the <111> direction is much slower (about 100× slower) than in the <100> direction.}} |Source={{own}} |Date=2010 |
Použitie súboru
Na tento súbor odkazuje nasledujúca stránka:
Globálne využitie súborov
Nasledovné ďalšie wiki používajú tento súbor:
- Použitie na en.wikipedia.org
- Použitie na ja.wikipedia.org
